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PHO-SQシリーズ 正方形ビームホモジナイザー
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PHO-K10SQ サンプル画像 型番: PHO−K10SQ
KrF用一体化コンパクト型、ビームサイズ5x5〜15x15
PHO-SQシリーズ正方形ビームホモジナイザーは
【構成図】の様にビーム成形デリバリ光学系、
マルチ波面分割レンズ系、ズームレンズ、又は
高解像度コンデンサレンズで構成されてます。
高度均一化したビーム分布の縁が 25μm以下の
急峻性を有しビームサイズも連続的に変える事
が出来るエキシマとYAG高調波等、 紫外高出力
レーザー用ビーム均一化光学システムです。
 この光学系の【応用例】も御参照下さい。

特    徴
 ● 繁雑な調整が不要でオンラインでのシステム組込が容易になります。
 ● 元の入射ビーム分布に左右されず高度なビーム均一性が得られます。
 ● ズームレンズ式簡単な手順で均一化されたビームサイズを変えます。
 ● 均一化されたビーム縁部分の立上がりは20μm 以下急峻になれます。

詳細仕様
モデル名  正方形ビームホモジナイザー PHO−SQシリーズ
入射ビーム
レーザー  エキシマ、YAGレーザーとその高調波、CO2
波    長  紫外157nmから、可視、IR
光強閾値  平均パワー400W以内、10ns/2J/Pulse(248nmより短波長の場合は要問合せ)
寿    命  パルス100M ショット以上(248nmより短波長の場合は要問合せ)
ビーム特性
均 一 性  不均一性≦±5%(RMSは2.5%以下)
縁急峻性  標準タイプ片側縁の幅(FWHM)<10%、オプションで幅<25μm可
光発散角  コンデンサレンズ後のビーム拡がり角 <10°
効    率  標準タイプ 90%以上、縁急峻タイプ 60%
サ イ ズ  正方形、或は長方形、片方向長さMAX=100mm以内御指定可
オプション
サイズ可変  ズーム倍率、規格品1.5倍、2倍、3倍(その他特注可)
縁急峻化  片側に縁の幅(FWHM) < 25μm 可
高解像度  解像度5μm以下 可 (均一化されたビームを投影加工の場合)
CCD観察系  オンラインで照射面観察用高解像度高倍率 CCD光学系
予備整形  入射レーザーとホモジナイザーのビームサイズ合せ(予備整形)光学系
デリバリ系  デリバリ光学系、光学システム収納ボックス等カスタマイズ

正方形ホモジナイザー強度分布
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三次元強度分布
正方形ホモジナイザービーム三次元強度分布
型式 PHO-K10SQ、均一性 ±1.5%以内、縁の幅L(FWHM)=28μm
二次元強度分布
上記ホモジナイザービーム二次元強度分布

正方形ホモジナイザー構成図
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正方形ホモジナイザー構成図

正方形ホモジナイザー応用例
ビーム分布均一化の効果
均一ビームでの直接照射  照射効果が光強度に高度依存の場合、高度均一ビーム分布が必要
応用分野  液晶パネルのTFTアニールと光ラビング,CVD/MOCVD/PVD/MOPVD/表面改質
均一ビームの再投影加工  加工後、穴/溝のサイズ・形状・深さは、ビーム強度に高度依存
 全試料面に加工パラメータ、高度な一致性を要求する高精度加工
応用分野  レーザードリリング・マーキング・スクライビング・カッティング
ビーム分布縁急峻化効果
試料全面に均一照射の課題  ビーム移動により試料全面に均一照射する場合、ビーム縁部分の
 強度分布は不均一であり、重ねて照射の縁エリアは不均一の要因
応用分野  液晶パネルTFTアニールと光ラビング,大面積試料MOCVD/表面改質等
ビームサイズ可変の効果
照射強度・効率・速度等課題  ビームサイズを最適な照射強度に合わせて調整出来、効率の向上
応用分野  微細加工、アニール、表面改質等、特に、条件出す予備実験装置
照射面観察光学系の作用
試料観察・CCD光学系の仕組  当社独自に開発した方法で光学ロスゼロのオンライン観察光学系
 蝿目と円筒形レンズアレイ両方対応、同軸照明系+高解像度レンズ
オンライン観察の不可欠性  高精度の位置決め、加工結果のチェック、照射面ビーム分布計測
応用分野  微細加工、アニール等の生産ラインに即時の品質チェックも可能
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最終更新日 H21年08月13日